合作伙伴：甘肃某半导体企业

仪器类型：电感耦合等离子体质谱仪

品牌：安捷伦

型号：ICPMS 7700X

2023年10月10日，甘肃某半导体企业购买安捷伦电感耦合等离子体质谱仪ICPMS7700X，安装调试完毕，感谢客户的支持与认可！

与传统无机分析技术相比，电感耦合等离子体质谱仪ICP-MS技术提供了最低的检出限、最宽的动态线性范围、干扰最少、分析精密度高、分析速度快、可进行多元素同时测定以及可提供精确的同位素信息等分析特性。

 

硅片是信息技术产业中半导体制造业的基础材料, 硅片在制作使用过程中的金属杂质控制与检测是关乎产品性能的重要手段与指标。在制造工艺生产过程中硅片表面极其少量金属污染的存在都有可能导致器件功能失效或可靠性变差, 有统计表明, 在电力电子元器件和光伏产品制造业中50%产品良率的降低都是由于污染造成的,因此在制造生产过程中对硅片表面杂质污染的控制极为重要，检测规范非常严格。
 

随着ICP-MS (电感耦合等离子体质谱分析法)技术的不断革新,以吸其杰出的超痕量级检测性能和多元素同时快速分析能力, 现已成为硅片表面污染测试监控中必不可少的手段。硅片表面污染测试既是硅片制造过程中必不可少的监控手段,也是提升后道器件性能的重要方法与依据。电感耦合等离子体质谱分析法通过不断革新,已具备出的超痕量级检测性能和多元素同时快速分析能力,已被成熟使用多年,亟需制定相关产品标准。

国家标准《硅片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法》GB/T 39145-2020

本标准规定了电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）测定硅片表面金属元素含量的方法。
本标准适用于硅单晶抛光片和硅外延片表面痕量金属钠、镁、铝、钾、钙、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌元素含量的测定，测定范围为108 cm²～1013cm²。本标准同时也适用于硅退火片、硅扩散片等无图形硅片表面痕量金属元素含量的测定。